Speaker
Mr
Wang Yizhou
(Institute of Nuclear Science and Tchnology)
Description
随着串列加速器的发展，最佳剥离膜厚度得到了广泛深入的研究。大多数研究主要集中在高电荷态铀离子条件下，剥离膜的最佳厚度，多数研究涉及到的剥离膜厚度大于10 ug/cm2。[1,2]碳离子轰击剥离膜的研究则较少。为研究低电荷态碳离子在0~3 MeV 加速电压下最佳剥离膜厚度。主要采用 ETACHA 软件模拟，并结合实验检验。最佳膜厚度主要以电荷剥离效率作为判断依据，同时将会考虑到剥离膜寿命，束流发散度和能量歧离的影响。结果如下：（1） 由模拟条件2 MV电压加速得，如图1所示，C3+的最大剥离效率高于C+和C2+，碳膜在1 ug/cm2、10 ug/cm2和13 ug/cm2左右时，分别对C4+、C5+和C6+的剥离效率最高；（2） 对比了C+、C2+和C3+经2 MV电压加速后穿过5 ug/cm2的碳剥离膜后产生各种碳离子的比例，如图2所示，排除原束流干扰后，实验与模拟符合较好；（3） 模拟了8 MeV碳离子穿过20 ug/cm2碳剥离膜后的出射能量，7.86 MeV；能量离散，8024 eV；位置偏离，0.31 Å。说明碳膜的添加对束流品质影响较小。结果对低能加速器产生高价态高能离子具有一定指导意义。
Summary
串列加速器;碳剥离膜;剥离效率
| Abstract Type | Talk |
|---|
Primary author
Dr
Qu Guofeng
(Institute of Nuclear Science and Tchnology)
Co-authors
Prof.
Han Jifeng
(Institute of Nuclear Science and Tchnology)
Mr
Wang Yizhou
(Institute of Nuclear Science and Tchnology)
